Jurnal Online

lihat situs sponsor
 
Rabu, 22 November 2017  
 
halaman sebelumnya »  

Jurnal Fisika Himpunan Fisika Indonesia
http://situs.jurnal.lipi.go.id/jfhfi/   -   http://jf.hfi.fisika.net

KARAKTERISTIK ETSA ANISOTROPIK LARUTAN KOH TERHADAP SILIKON (100) DALAM MEMBENTUK STRUKTUR MIKROMEKANIK BERBASIS TEKNOLOGI MEMS

Totok M. S. Soegandi1, Goib Wiranto1, Amri Cahyadi2.

1)Puslitbang Elektronika dan Telekomunikasi - LIPI, Bandung, Indonesia
2)Institut Teknologi Nasional, Bandung, Indonesia

Abstrak
Pada Micro-Electro-Mechanical-Systems (MEMS) baik divais elektronik maupun mekanik dibentuk dalam substrat yang sama yang umumnya silikon. Mikromesin menggunakan teknik fabrikasi dengan metoda etsa secara selektif dan terkontrol seperti yang biasa dilakukan pada proses teknologi-planar. Untuk mengatasi ketelitian, sensitivitas, maupun pengaruhnya terhadap temperatur, teknologi etsa anisotropik dilakukan.``Pada tulisan ini, teknik etsa basah anisotropik dengan larutan KOH digunakan. Larutan etsa dipanaskan antara 70 - 90C untuk mendapatkan kecepatan etsa tertentu dimana temperatur harus dijaga tetap stabil. Struktur mikromesin ditampilkan, demikian pula aplikasi teknologi sebagai divais sensor. Dengan semakin luasnya aplikasi, teknologi ini terlihat menunjukkan trend yang meningkat.

Publikasi : Jurnal Fisika HFI Suplemen Prosiding A5 (2002) 0598 » halaman Daftar Isi
» kirim ke teman
» versi cetak
» permintaan versi cetak
Naskah lengkap : lisensi tertutup dalam format PDF (permintaan versi cetak)
Kontak : penulis
Keterangan lain : 6 hal., bahasa Indonesia » diakses 21.173 kali

  Dikelola oleh PDII LIPI Hak Cipta © 2000-2017 LIPI